半導體工業氮氧化物排放要求TCIECCPA 007-2024.pdf

上傳人：一***

文檔編號：342241

上傳時間：2024-07-22

格式：PDF

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關鍵詞：: 半導體工業氮氧化物排放要求TCIECCPA 007-2024 半導體工業氧化物排放要求 TCIECCPA 007 2024

資源簡介：: 《半導體工業氮氧化物排放要求》講解了中國工業節能與清潔生產協會為半導體行業制定的一套詳細、科學的氮氧化物排放管理標準及檢測規范，旨在指導和監控該行業的環保表現。該文件內容涵蓋了氮氧化物排放的相關定義、具體的排放限值設定以及如何執行和監測這些限值的方法。文中列舉了半導體企業在不同條件下應遵循的最大允許排放量及其計算方法，并且提出了多種測定氮氧化物污染物濃度的技術途徑，如紫外分光光度法和定電位電解法等，以便企業和監管機構可以精準把握廢氣排放狀況。通過提供一套完善的氮氧化物推薦處理方案，包括使用氧化還原吸收法流程和堿液吸收法流程來凈化排放氣體中的NOx，同時列出當前地方上對氮氧化物排放的限定指標以供對比參考，確保各企業能依據當地法律法規調整其操作規程。

《半導體工業氮氧化物排放要求》適用于半導體行業中所有涉及生產工藝中會產生大氣污染性氮氧化物的企業單位。這些企業包括但不限于那些從事半導體分立器件或集成電路的制造及封裝測試工作，在生產過程中因燃燒工藝、化學氣相沉積等步驟而可能向環境中釋放有害氣體的企業組織。文件明確了對于上述類型企業的適用范圍及其需要達到的具體環境標準，特別是在控制氮氧化物這類重要大氣污染物方面提出了一系列嚴格的量化指標，并且規定了一系列技術手段用于實現這一目標。這不僅有助于提高行業內公司的自我約束意識和技術革新動力，還便于政府主管部門進行有效的監督與管理，從而推動整個行業的可持續綠色發展。

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